露點儀TK-100在半導體芯片生產(chǎn)中的應用

發(fā)布日期：2023-10-21      瀏覽次數(shù)：665

露點儀TK-100在半導體芯片生產(chǎn)中的應用

測量氣體中的水蒸氣露點溫度的儀器叫做露點儀。露點儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同，可以分為多種類型。

露點儀在半導體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導體芯片的生產(chǎn)是在凈化間內(nèi)進行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度（RH）這一項，一年內(nèi)控制點的范圍從35%到65%，精度2%（70℃以下）濕度超標會影響產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)計劃的完成。

        在半導體芯片生產(chǎn)區(qū)，濕度不穩(wěn)定，會出現(xiàn)很多問題。最典型的問題是烘干期延長，整個處理過程變得難以控制。當相對濕度高于35%時，元件易被腐蝕。此外，將顯影液噴在芯片表面時，顯影液迅速揮發(fā)，使芯片表面溫度下降，致使水汽凝結(jié)在芯片表面。凝結(jié)水不但會影響顯影特性，還會吸收到半導體內(nèi)，這將導致膨化及其它質(zhì)量缺陷，還必須增加一些不必要的工藝控制。

        凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調(diào)節(jié)空氣，另一種是除濕劑。采用第一種方法時，將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點以下。除去析出的冷凝水，將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后，重新送回凈化間。標準冷凍機可保證露點達到+4℃；采用第二種方法時，氣流通過吸濕劑，吸濕劑直接吸收氣流中的水分，然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點低于-18℃。






TK-100 在線露點儀的傳感器，采用的是 靜電容量式原理。 

當水分子被夾在兩個導電層之間的多孔絕緣層 吸收時，上導電層與下導電層之間的電容將會 產(chǎn)生變化。 

該電容量通過傳感器內(nèi)部電路被線性的轉(zhuǎn)換為露點 的模擬信號。 吸濕水分的絕緣層厚度為 0.5 μm 以下，上層導電金屬層厚度為 0.1 μm 以下，即使少量 水分的吸附也可迅速反應。 

擁有如此薄度的同時，傳感器仍保持優(yōu)秀的強韌及耐久性。

高度可信性的校準/可追溯性 

TK-100 在線露點儀，在嚴格的溫濕度管理下，采用美國 NIST 和具有可追溯性的基準露點儀對各種測量儀器進行校準。 

此外，本公司在－70 ℃ 至－10 ℃的低露點范圍領(lǐng)域，被認定為 JCSS※ 校準企業(yè)。因此，在傳統(tǒng)的 NIST 可追溯性校準的基礎(chǔ)上， 可按照 ISO/IEC17025 進行校準。